-
Komponen Keramik untuk Peralatan Probe Semikonduktor
Dibentuk melalui proses pengepresan isostatik dingin dan disinter pada suhu tinggi, kemudian diolah dan dipoles dengan presisi, suku cadang keramik dapat memenuhi persyaratan ketat peralatan semikonduktor dengan fitur ketahanan aus, ketahanan korosi, ekspansi termal rendah, dan isolasi. Keramik dapat bekerja dalam berbagai jenis peralatan produksi semikonduktor dengan kondisi suhu tinggi, vakum, atau gas korosif dalam waktu lama.
Terbuat dari bubuk alumina dengan kemurnian tinggi, diproses melalui pengepresan isostatik dingin, sintering suhu tinggi, dan penyelesaian presisi, produk ini dapat mencapai toleransi dimensi hingga ±0,001 mm, kekasaran permukaan Ra 0,1, dan ketahanan suhu hingga 1600℃.
-
Pembawa Peralatan Semikonduktor Pelat Keramik
Dibentuk melalui proses pengepresan isostatik dingin dan disinter pada suhu tinggi, kemudian diolah dan dipoles dengan presisi, suku cadang keramik dapat memenuhi persyaratan ketat peralatan semikonduktor dengan fitur ketahanan aus, ketahanan korosi, ekspansi termal rendah, dan isolasi. Keramik dapat bekerja dalam berbagai jenis peralatan produksi semikonduktor dengan kondisi suhu tinggi, vakum, atau gas korosif dalam waktu lama.
Terbuat dari bubuk alumina dengan kemurnian tinggi, diproses melalui pengepresan isostatik dingin, sintering suhu tinggi, dan penyelesaian presisi, produk ini dapat mencapai toleransi dimensi hingga ±0,001 mm, kekasaran permukaan Ra 0,1, dan ketahanan suhu hingga 1600℃.
-
Suku Cadang Keramik Peralatan Semikonduktor
Dibentuk melalui proses pengepresan isostatik dingin dan disinter pada suhu tinggi, kemudian diolah dan dipoles dengan presisi, suku cadang keramik dapat memenuhi persyaratan ketat peralatan semikonduktor dengan fitur ketahanan aus, ketahanan korosi, ekspansi termal rendah, dan isolasi. Keramik dapat bekerja dalam berbagai jenis peralatan produksi semikonduktor dengan kondisi suhu tinggi, vakum, atau gas korosif dalam waktu lama.
Terbuat dari bubuk alumina dengan kemurnian tinggi, diproses melalui pengepresan isostatik dingin, sintering suhu tinggi, dan penyelesaian presisi, produk ini dapat mencapai toleransi dimensi hingga ±0,001 mm, kekasaran permukaan Ra 0,1, dan ketahanan suhu hingga 1600℃.
-
Cincin Segel Keramik Alumina Kemurnian Tinggi untuk Penyegelan Ruang Suhu Tinggi
Cincin segel keramik St.Cera dirancang sebagai alternatif untuk cincin-O polimer di lingkungan ekstrem di mana elastomer mengalami degradasi. Diproduksi dari alumina (Al₂O₃) dengan kemurnian tinggi 99,8%, cincin segel kaku ini digunakan dalam aplikasi penyegelan statis — biasanya dipasangkan dengan gasket logam lunak atau grafit — untuk memberikan penahanan vakum atau gas yang andal pada suhu hingga 800°C dan di lingkungan plasma atau kimia yang agresif. Material ini menawarkan pelepasan gas nol, kekuatan tekan tinggi (kekuatan lentur dasar 361 MPa), dan inert secara kimia (tahan terhadap halogen, asam, dan alkali kecuali HF). Permukaan penyegelan yang dipoles presisi (kerataan ≤5 μm, kekasaran permukaan Ra ≤0,2 μm) memastikan kontak kedap bocor dengan komponen logam atau keramik yang berpasangan.
-
Cincin Fokus Ruang Alumina Kemurnian Tinggi untuk Sistem Etching Plasma & CVD
Cincin fokus ruang St.Cera adalah komponen penting dari kit proses yang digunakan dalam peralatan semikonduktor etsa plasma, CVD, dan PVD. Dibuat dari alumina (Al₂O₃) dengan kemurnian tinggi 99,8%, cincin ini mengelilingi tepi wafer untuk membatasi plasma dan mengoptimalkan distribusi sudut ion, sehingga meningkatkan keseragaman etsa di seluruh permukaan wafer. Material ini menawarkan ketahanan plasma yang luar biasa, kekuatan dielektrik tinggi (15×10⁶ V/m), dan stabilitas termal hingga 1600°C, memastikan keandalan jangka panjang dalam lingkungan plasma berbasis fluorin atau klorin yang agresif. Diameter dalam/luar yang digiling presisi dan kerataan (≤10 μm) memungkinkan penempatan tepi wafer yang akurat, mengurangi cacat tepi dan pembentukan partikel.
-
Cincin Keramik Alumina Kemurnian Tinggi untuk Ruang Proses CVD / PVD
Cincin keramik St.Cera dirancang khusus untuk digunakan dalam ruang proses CVD (Chemical Vapor Deposition) dan PVD (Physical Vapor Deposition). Dibuat dari alumina (Al₂O₃) dengan kemurnian tinggi 99,8%, cincin ini berfungsi sebagai pelapis ruang, cincin fokus, atau komponen kit proses untuk menahan plasma dan melindungi dinding ruang dari erosi. Material ini menawarkan ketahanan plasma yang sangat baik, kekuatan dielektrik tinggi (15×10⁶ V/m), dan stabilitas termal hingga 1600°C, memastikan masa pakai yang lama dalam lingkungan plasma berbasis fluorin yang agresif. Toleransi dimensi yang presisi (±0,05 mm pada ID/OD) dan kerataan (≤10 μm) memungkinkan penempatan tepi wafer yang konsisten, meningkatkan keseragaman deposisi dan mengurangi pembentukan partikel.
-
Ujung Efektor Keramik Bernoulli — Penanganan Wafer Tanpa Kontak untuk Wafer Tipis & Rapuh
Ujung efektor keramik Bernoulli dari St.Cera menggunakan daya angkat aerodinamis untuk menangani wafer tanpa kontak fisik. Dibuat dari alumina (Al₂O₃) atau silikon karbida (SiC) dengan kemurnian tinggi 99,8%, ujung efektor ini memiliki nosel yang diproses secara presisi yang menyemburkan gas bertekanan untuk menciptakan lapisan udara tipis antara ujung efektor dan wafer. Prinsip tanpa kontak ini menghilangkan kontaminasi bagian belakang, pengelupasan tepi, dan kerusakan permukaan, sehingga ideal untuk wafer tipis (≤100 μm), rapuh, atau melengkung. Substrat keramik memberikan kekuatan lentur yang tinggi (361 MPa untuk Al₂O₃; hingga 550–600 MPa untuk SiC), massa rendah, dan stabilitas dimensi yang sangat baik, memastikan penempatan yang berulang pada robot transfer wafer berkecepatan tinggi.
-
Komponen Keramik Alumina Kemurnian Tinggi untuk Aplikasi Semikonduktor & Industri
St.Cera memproduksi komponen keramik alumina (Al₂O₃) yang dikerjakan dengan presisi sesuai spesifikasi pelanggan. Menggunakan alumina dengan kemurnian tinggi 99,8%, komponen ini memberikan kekuatan lentur yang sangat baik (361 MPa), kekerasan tinggi (16 GPa), dan kekuatan dielektrik yang luar biasa (15×10⁶ V/m). Dirancang untuk peralatan semikonduktor, rakitan tahan aus, isolator listrik, dan perlengkapan suhu tinggi, material ini menawarkan penyerapan air mendekati nol (0%) dan koefisien ekspansi termal 7,2×10⁻⁶/℃, memastikan stabilitas dimensi dalam kondisi ekstrem.
-
Penjepit Vakum Keramik Berpori untuk Penanganan Wafer yang Melengkung
Chuck keramik berpori St.Cera dirancang dari alumina dengan kemurnian tinggi dengan porositas terbuka seragam 30–45% dan ukuran pori mulai dari 10 hingga 100 μm. Tidak seperti chuck beralur konvensional, permukaan berpori memberikan vakum terdistribusi di seluruh bagian belakang wafer, secara efektif menahan wafer yang melengkung, tipis, atau terpisah tanpa terangkatnya tepi atau kerusakan. Vakum yang lembut (dapat disesuaikan melalui pembatas) juga mencegah goresan pada bagian belakang.
-
Penjepit Vakum Keramik Berpori Berbasis Alumina untuk Penanganan Wafer Tipis
Chuck berpori berbahan dasar alumina dari St.Cera dibuat dari Al₂O₃ dengan kemurnian tinggi 99,6% dengan porositas terbuka terkontrol sebesar 30–45% dan ukuran pori seragam berkisar antara 10 hingga 50 μm. Tidak seperti chuck beralur, permukaan berpori memberikan vakum terdistribusi di seluruh bagian belakang wafer, menghilangkan bekas goresan pada tepi dan memungkinkan penahanan yang lembut pada wafer ultra-tipis (≤100 μm) atau wafer yang melengkung. Material ini menawarkan kekuatan lentur ≥250 MPa dan stabilitas termal hingga 400°C di udara.
-
Pelat Distribusi Gas Alumina untuk Kepala Pancuran CVD/PVD
Pelat distribusi gas (showerhead) St.Cera diproses secara presisi dari keramik alumina dengan kemurnian tinggi 99,8%. Pelat ini memiliki serangkaian lubang mikro (diameter 0,3–1,5 mm) yang memastikan aliran gas seragam di seluruh permukaan wafer selama proses CVD, PVD, atau ALD. Kekuatan dielektrik yang tinggi (>15×10⁶ V/m) dan ketahanan terhadap plasma menjadikan pelat ini sangat penting untuk deposisi lapisan tipis semikonduktor.
-
Pin Penyangga Keramik untuk Perlengkapan Proses Semikonduktor
Pin penyangga keramik St.Cera (juga dikenal sebagai pin pengangkat atau pin penyangga) digunakan dalam ruang proses semikonduktor untuk mengangkat wafer atau substrat selama penanganan, pemanasan, atau pendinginan. Diproduksi dari 99,8% alumina atau silikon nitrida, pin ini menawarkan kekuatan tekan yang tinggi, stabilitas termal, dan ketahanan kimia. Desain ujung setengah bola atau datar mencegah goresan pada wafer.
