-
Lengan Robot Keramik Alumina Kemurnian Tinggi untuk Penanganan Wafer
Lengan robot keramik alumina St.Cera dirancang dengan presisi dari Al₂O₃ (alumina) dengan kemurnian tinggi 99,8%. Lengan ini menggabungkan kekuatan lentur yang luar biasa (361 MPa), kekerasan tinggi (16 GPa), dan kepadatan rendah (3,93 g/cm³), menghasilkan lengan yang ringan namun kaku untuk transfer wafer semikonduktor. Koefisien ekspansi termal material (7,2×10⁻⁶/°C) sangat mirip dengan silikon, meminimalkan ketidaksesuaian termal selama pemrosesan.
-
Ujung Efektor Keramik Bernoulli — Penanganan Wafer Tanpa Kontak untuk Wafer Tipis & Rapuh
Ujung efektor keramik Bernoulli dari St.Cera menggunakan daya angkat aerodinamis untuk menangani wafer tanpa kontak fisik. Dibuat dari alumina (Al₂O₃) atau silikon karbida (SiC) dengan kemurnian tinggi 99,8%, ujung efektor ini memiliki nosel yang diproses secara presisi yang menyemburkan gas bertekanan untuk menciptakan lapisan udara tipis antara ujung efektor dan wafer. Prinsip tanpa kontak ini menghilangkan kontaminasi bagian belakang, pengelupasan tepi, dan kerusakan permukaan, sehingga ideal untuk wafer tipis (≤100 μm), rapuh, atau melengkung. Substrat keramik memberikan kekuatan lentur yang tinggi (361 MPa untuk Al₂O₃; hingga 550–600 MPa untuk SiC), massa rendah, dan stabilitas dimensi yang sangat baik, memastikan penempatan yang berulang pada robot transfer wafer berkecepatan tinggi.
-
Ujung Efektor Keramik Berlapis Teflon – Permukaan Anti Lengket untuk Penanganan Wafer Sensitif
Ujung efektor keramik berlapis Teflon (PTFE) dari St.Cera menggabungkan substrat alumina berkekuatan tinggi dengan lapisan PTFE seragam dan gesekan rendah (ketebalan 15–30 μm). Lapisan ini memberikan koefisien gesekan yang sangat rendah (≤0,1), ketahanan kimia yang sangat baik, dan sifat anti lengket, mencegah adhesi wafer dan menghilangkan kontaminasi bagian belakang. Substrat keramik di bawahnya (99,8% Al₂O₃) menawarkan kekuatan lentur tinggi (361–1000 MPa), ketahanan aus, dan stabilitas termal hingga 260°C (batas lapisan). Ujung efektor ini ideal untuk menangani wafer yang halus, tipis, atau lengket (misalnya, setelah pelapisan photoresist atau proses kimia).
